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第一千二百八十一章 宝贵的承诺(2 / 2)


“以后你们工作要注意劳逸结合,别把自己累垮了,你们可是咱们公司技术方面的顶梁柱。”段云安顿了一句,接着说道:“另外我建议你们过年期间休息个一两天,家人我都帮你们接过来,真要是把你们累坏了,那我可就成罪人了。”

“谢谢段经理。”黄令仪感激的说道。

“行了吧,那你们忙吧,我先去别处看看。”

段云说完,对众人微微一笑,转身离开了实验室。

走出研发中心之后,段云坐在自己的车里,陷入了短暂的沉思。

尽管得到了黄令仪承诺的可以在年内完成nada芯片的承诺,然而对段云来说,如果想长期在国际芯片产业占据一席之地,它还有很多的问题需要解决。

而其中之一,就是要保证拥有制造芯片所需的最先进的光刻机。

说起光刻机,后世人们第一个想到的就是荷兰的阿斯麦公司。

其实在七八十年代的时候,咱们国家就已经有了国产光刻机。

国产第1台光刻机gk-3型半自动接近式光刻机诞生于1977年,而那个时候荷兰的阿斯麦连成立都没有成立。

光刻机是大系统高精尖技术和工程极限高度融合的结晶,被誉为集成电路产业链“皇冠上的明珠”。

日本的尼康和佳能于20世纪60年代末开始进入光刻机领域,中国利用光刻技术制造集成电路,大致也是始于同一时期。

但是中国的光刻机产业可以用一句话来形容,那就是:起了个大早,赶了个晚集。

1965年,我国第1块集成电路在北京,石家庄和上海等地相继问世,1974年9月第1次全国大规模集成电路工业会议召开,国家纪委在北京召开的“全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战会议”上,拟定的目标是在1974年到1976年,突破大规模集成电路的工艺装备基础材料等方面的关键技术,司机部组织京沪电子工业会战进行大规模集成电路及材料装备研发,突破超威力钢板,光刻胶超纯净试剂,高纯度气体磁场,偏转电子束镀膜机等材料装备。

1975年12月第2次全国大规模集成电路会议在上海召开,1977年1月第3次全国大规模集成电路会议在贵州召开,这三次会议可以说直接导致了上世纪80年代前后,中科院系统电子部系统地方各研发单位光刻机成果的第1次大爆发。 </p>


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